進(jìn)樣系統(tǒng)和離子源的維護(hù)

    2.離子源的維護(hù)  離子源的種類很多，達(dá)十多種，不必一一敘述其維護(hù)方法。如果接進(jìn)樣系統(tǒng)的離子源，其一端接進(jìn)樣系統(tǒng)，一端具有出口狹縫，而且均處于高真空之中，因此在使用過程中，要特別注意兩端的接口不能有漏，否則破壞了真空系統(tǒng)就導(dǎo)致環(huán)境污染，質(zhì)譜分析無法進(jìn)行。因此在電離前，應(yīng)保證達(dá)到預(yù)設(shè)的真空度。出口狹縫以及一些固定的電極，不可隨意拆卸，否則很難精確調(diào)整。在使用高頻火花離子源時(shí)，要經(jīng)常打開離子源安裝樣品固體電極，電極架容易被損壞，密封圈也容易被損壞，出口狹縫容易被樣品濺射物所污染。因此在操作時(shí)，要小心，狹縫污染可以用脫脂棉蘸乙醇、丙酮等溶劑清洗，但不能留下棉絮在狹縫中。在使用ICP離子源時(shí)，要防止碰碎石英炬管，防止炬管被堵塞。